MC200標準型
對控製精度、重複性有更高要求的行業配套客戶首選

最小流量:0.1SCCM     最大流量:500SLPM

MC200標準型氣體層流質量流量控製器與SC100標準型氣體層流質量流量控製器的區別在於沒有觸摸式顯示屏,通過產品內置的壓力、溫度傳感器的精確補償及獨創核心算法,在低零點、溫度、壓力漂移量上表現出了傑出性能。堅固的金屬外殼,使產品在工業複雜環境下確保耐用性和強抗電磁幹擾性能,同時,內置多種氣體和混氣設置,數字式和模擬式的通訊方式,實現流量的精確測量和控製。

特征
  • 原理
    層流壓差式
    流量控製器
    層流壓差式流量控製器
  • 高精度
    ±1.0%
    設定值精度
    ±1.0%設定值精度
  • 高重複性
    ±0.2%
    F.S.
    ±0.2%F.S.
  • 寬溫度、壓力適用範圍
    -20℃~60℃、1Mpa
    以內
    -20℃~60℃、1Mpa以內
  • 可選模擬信號、數字信號
    (0~5)V、RS485
    傳輸方式
    (0~5)V、RS485傳輸方式
  • 內置
    43種
    氣體和混氣測量
    43種氣體和混氣測量
  • 提供
    上位機軟件
    實時顯示和下載數據信息
    上位機軟件實時顯示和下載數據信息
使用條件
兼容
內置43種氣體和可編輯的混合氣體
Compatible
工作流量範圍
1%~120%F.S.
Working flow range
介質溫度
-20℃~60℃
Medium temperature
環境溫度
-20℃~60℃
Ambient temperature
使用濕度
0%~98%(無冷凝)
Operating humidity
最大工作壓力
1Mpa
Working pressure
耐壓
1.5Mpa
Withstand voltage
供電電壓
﹢(18~30)VDC
Supply voltage
消耗電流
<150mA (供電電壓為24v時) <300mA(<5V)
Current consumption
無指定(任意角度)
安裝方式
Installation method
規格型號
應用領域
鍍膜設備

光學、原子鍍膜設備中的流控器件

配套設備

高端製造設備中流控係統的集成和配套

流控器件

精細化工生產線中的流控器件

生物反應器

生物反應器成套設備中的流控器件

配氣裝置

配氣係統或裝置中的流控器件

分析儀器

分析儀器、科學儀器中的流控器件

定製化設備

定製化成套自動化設備中的流控器件